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《MOS集成电路工艺与制造技术》全面介绍了MOS集成电路工艺和制造技术。内容包括：硅晶圆衬底，氧化，扩散，离子注入，外延，化学汽相淀积，光刻，付蚀与刻蚀等，PNOS，NMOS，CMOS，LV HV兼容CMOS等制造工艺。